I.st Repair Hydrogel Mask

Premium-hüdrogeelmask PDRN-i ja vananemisvastaste koostisosade kompleksiga taastab naha koheselt, niisutab sügavuti ja parandab elastsust. Mugav hüdrogeeltekstuur sobitub tihedalt nahale, tagades toimeainete maksimaalse imendumise.

Põhiomadused:
• Kiirendab naha taastumist ja vähendab väsimuse märke.
• Parandab naha tugevust ja elastsust.
• Niisutab sügavuti ja toidab nahka.
• Rahustab ja vähendab ärritust.
• Jätab naha säravaks ja värskeks.

Aktiivained:
• PDRN (polüdeoksüribonukleotiid) - stimuleerib rakkude uuenemist ja tugevdab nahka.
• Fermenteeritud must ženšenn - tugev antioksüdant, aeglustab vananemist.
• Tšaga seene ekstrakt - taastab ja toidab nahka.
• Centella Asiatica ekstrakt - rahustab ja parandab.
• Hüaluroonhape - niisutab sügavuti.

Vorm ja tekstuur:
Hüdrogeelmask tiheda sobivusega, et säilitada essentsi ja tagada sügav toime.

KUIDAS KASUTADA

Kasutamine:

1. Puhastage nägu ja kasutage toonikut.
2. Võtke mask ja asetage see ühtlaselt näole.
3. Jätke peale 15-20 minutiks.
4. Eemaldage mask ja patsutage ülejäänud essents õrnalt nahka.

KOOSTISOSAD | INCI (International Nomenclature of Cosmetic Ingredients)

Water, Glycerin, Butylene Glycol, Ceratonia Siliqua (Carob) Gum, Sucrose, Sodium DNA, Carrageenan, Potassium Chloride, Xanthan Gum, Allantoin, Sodium Polyacrylate, Gellan Gum, Cellulose Gum, Butyrospermum Parkii (Shea) Butter, Calcium Lactate, Dipotassium Glycymhizate, Disodium EDTA, Ricinus Communis (Castor) Seed Oil, PEG-60 Hydrogenated Castor Oil, Chlorphenesin, Ethyl Hexanediol, 1,2-Hexanediol, Propanediol, Pentylene Glycol, Cocos Nucifera (Coconut) Fruit Extract, Pinus Sylvestris Leaf Extract, Mica, Titanium Dioxide, Tin Oxide, Cl 77491, Fragrance